光刻胶行业细分市场产品应用领域分析及重点企业分析
1、光刻胶产品介绍及分类情况
光刻胶是由感光树脂、光引发剂、溶剂三种主要成分和其他助剂组成的对光敏感的混合液体，是通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X 射线等光照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。感光树脂构成光刻胶的基本骨架，主要决定曝光后光刻胶的基本性能，包括硬度、柔韧性、附着力、曝光前和曝光后对特定溶剂的溶解度；光引发剂对光刻胶的感光度、分辨率等起决定性作用；溶剂用于溶解光刻胶各组成成分，也是后续光刻胶化学反应的介质。助剂是指根据不同用途添加的颜料、固化剂、分散剂等调节性能的添加剂。
光刻胶种类繁多，根据其化学反应机理和显影原理，可分为正性光刻胶和负性光刻胶两类。对显影液不可溶，经光照后变成可溶物质的即为正性光刻胶；反之，光照后形成不可溶物质的是负性光刻胶。根据应用领域，光刻胶可分为集成电路光刻胶（可细分为晶圆制造、先进封装）、显示面板光刻胶和 PCB 光刻胶，其技术壁垒依次降低。PCB 光刻胶是目前国产替代进度最快的产品；显示面板中 LCD 光刻胶替代进度相对较快，OLED 光刻胶仍由国外企业垄断；集成电路光刻胶目前国产技术较国外先进技术差距较大。
2、光刻胶市场发展概况及细分市场应用领域
国产光刻胶发展起步较晚，与国外先进光刻胶技术相比国内产品仍有较大差距，目前主要集中在 PCB 光刻胶、TFT-LCD 光刻胶等产品。虽然国内 PCB光刻胶已初步实现进口替代，但 OLED 显示面板和集成电路用光刻胶等高端产品仍需大量进口，国产光刻胶正处于由中低端向中高端过渡阶段。
光刻胶作为技术壁垒最高的电子化学品之一，我国光刻胶产业，特别是集成电路用光刻胶，长期以来发展较为缓慢。2008 年以后，在国家重大科技专项的支持和国内集成电路产业快速成长的带动下，这种局面得到了一定程度的改变，陆续有公司关注集成电路用光刻胶及其相关产品产业化技术开发，并有部分产品进入市场应用。
随着集成电路集成度的提高，集成电路的制程工艺水平已由微米级、亚微米级、深亚微米级进入到纳米级阶段。为适应集成电路线宽不断缩小的要求，光刻胶的波长由紫外宽谱向 g 线（436nm）→i 线（365nm）→KrF（248nm）→ArF（193nm）→EUV（13.5nm）的方向转移，并通过分辨率增强技术不断提升光刻胶的分辨率水平。
各类光刻胶的产品的应用领域及产品特点
资料来源：普华有策
根据中国电子材料行业协会的数据，2021年中国集成电路g/i线光刻胶市场规模总计8.14亿元，预计到2025年将增长至10.40亿元，其中，2021年中国集成电路封装用g/i线光刻胶市场规模4.95亿元，预计2025年将增长至5.97亿元。
聚酰亚胺（PI）被誉为高分子材料金字塔的顶端材料。光敏聚酰亚胺（PSPI）是一类在高分子链上兼有亚胺环及光敏基团具有优异的热稳定性与良好的机械、电气、化学和感光性能的有机材料。利用PSPI在紫外光、X射线、电子束或离子束照射下会发生交联反应或分解反应，可以通过掩膜版在基材表面形成薄膜图形。在集成电路晶圆制造与封装领域中，PSPI广泛应用于芯片表面的钝化层、多层金属互连电路的层间介质层膜、WLP等先进封装中的凸点制作的介质绝缘层膜，以及塑封电路的应力缓冲保护层等。显示面板领域，随着TFT-LCD面板产能逐渐向中国大陆转移，产业链配套的要求使得大陆对TFT-LCD光刻胶的需求快速增长。与此同时，多条OLED产线的规划与投产也将带动相关领域对光刻胶的需求增长。由于显示面板涂布面积大，显示面板用光刻胶用量及市场规模大于集成电路市场。
3、行业内的主要企业
（1）美国杜邦（DuPont de Nemours,Inc.）
美国杜邦（原名陶氏杜邦）系 2017 年 8 月，陶氏化学与杜邦公司完成对等合并后的一家控股公司。2019 年陶氏杜邦（DowDuPont Inc.）拆分为陶氏（DOW Inc.）、杜邦（Dupont de Nemours, Inc.）及科迪华农业科技（CortevaAgriscience）三家企业。美国杜邦公司从事包括化工、材料、膜产品等在内的综合业务范围，集中了原陶氏、原杜邦的特种产品业务，包括封装材料及解决方案。
（2）日本石原（Ishihara Chemical Co.,LTD）
石原化学株式会社成立于 1900 年，员工数 264 人。日本石原是一家从事金属表面处理剂和设备、电子材料、汽车化工产品及工业化工产品的开发、制造和销售的公司。公司的金属表面处理剂（电镀液）用于以锡焊结合为目的的表面处理。
（3）日本 JSR
日本合成橡胶公司（JSR）总部位于日本东京，员工数 5,500 多人。产品包括合成橡胶，乳胶和合成树脂等石油化学类化学品。产品涉及电子、精密加工、半导体、新能源、环境、医药等行业。日本 JSR 半导体部门致力于光刻胶和其它周边的材料、研磨液等 CMP 材料的开发、制造和销售，为半导体光刻胶的重要海外供应商之一。
（4）德国 Merck（Merck KGaA）
德国 Merck 创建于 1668 年，总部位于德国达姆施塔特市（Darmstadt），下设有显示材料事业部、颜料和功能性材料事业部、先进技术事业部和集成电路材料事业部。2014 年，公司完成了对国际化工知名制造商安智电子材料（AZ）的收购，进一步扩大了其在亚洲市场的布局。德国默克在国内显示领域光刻胶市场占有较高的市场份额。
（5）上海新阳
上海新阳半导体材料股份有限公司成立于 2004 年，深圳证券交易所上市公司，总部位于上海。上海新阳主要从事半导体行业所需电子化学品的研发、生产和销售，同时开发配套的专用设备，主要产品包括晶圆制造及先进封装用电镀液及添加剂系列产品、晶圆制造用清洗液系列产品、半导体封装用电子化学材料等。
（6）安集科技
安集微电子科技（上海）股份有限公司成立于 2006 年，是一家集研发、生产、销售、服务为一体的自主创新型高科技微电子材料企业，主营业务为关键半导体材料的研发和产业化。公司产品包括不同系列的化学机械抛光液和光刻胶去除剂，主要应用于集成电路制造和先进封装领域。
（7）晶瑞电材
晶瑞电子材料股份有限公司成立于 2001 年，是一家微电子材料的平台型高新技术企业，围绕泛半导体材料和新能源材料两个方向，主导产品包括光刻胶及配套材料、超净高纯化学品、锂电池材料和基础化工材料等，广泛应用于半导体、新能源等行业，主要应用到下游电子产品生产过程的光刻、显影、蚀刻、清洗、去膜、浆料制备等工艺环节，其光刻胶产品由其子公司苏州瑞红生产。
（8）三孚新科
广州三孚新材料科技股份有限公司成立于 2009 年，是一家表面工程专用化学品提供商，主要从事表面工程技术的研究及新型环保表面工程专用化学品的研发、生产和销售。三孚新科的主要产品有电子化学品及通用电镀化学品，具体包括 PCB 水平沉铜专用化学品、PCB 化学镍金专用化学品、高耐蚀化学镍专用化学品、装饰性电镀添加剂等。
（9）艾森股份
艾森股份围绕电子电镀、光刻两个半导体制造及封装过程中的关键工艺环节，形成了电镀液及配套试剂、光刻胶及配套试剂两大产品板块布局，产品广泛应用于集成电路、新型电子元件及显示面板等行业。下游客户主要集中在集成电路封装和新型电子元件制造领域，涵盖了长电科技、通富微电、华天科技、日月新等国内集成电路封测头部厂商以及国巨电子、华新科等国际知名电子元件厂商。
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