靶材是溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材，特别是高性能溅射靶材应用于电子元器件制造的物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）工艺，是制备半导体晶圆、显示面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。

溅射工艺最早起源于国外。起初溅射过程具有工作气压高、溅射基体温升高、溅射沉积速率低等缺点，不满足工业化生产的条件。自 20 世纪 80 年代以来，随着辅助电极、磁控溅射、脉冲电源等新技术的应用，溅射工艺优势逐步显现，应用范围不断拓宽。目前溅射工艺已广泛应用于各种薄膜材料的工业化制备，是目前主流的镀膜方法。

在行业发展初期，溅射靶材及配套镀膜设备均为国外厂商提供。由于国外溅射靶材厂商与设备厂商具有长期配套磨合的经验，靶材在使用过程中的溅射效果能够充分满足下游客户的需求，具有较强的先发优势及竞争优势。因此，全球溅射靶材的研发及生产主要集中于美国、日本及德国等国家的少数公司，产业集中度较高。经过几十年的技术积淀，这些国外厂商凭借其雄厚的技术力量、精细的生产控制和过硬的产品质量居于全球高端溅射靶材市场的主导地位。

受到发展历史及技术限制的影响，我国溅射靶材行业起步较晚，目前多数溅射靶材企业产品仍主要应用于下游的中低端产品，高端溅射靶材产品则多为国外进口。全球溅射靶材市场中主要的四家企业 JX 金属、霍尼韦尔、东曹和普莱克斯，合计垄断了全球约八成的市场份额。近年来，随着平面显示、半导体等制造产业产能向国内不断转移，国内溅射靶材需求已占到全球需求的约三成以上，随着包括疫情在内的周边和国际环境的变化，实现国内重点行业关键设备核心材料的自主可控具有必要性。

近年来，受益于国家从战略高度持续地支持电子材料行业的发展及应用推广，我国国内开始出现少量专业从事高性能溅射靶材研发和生产的企业，并成功开发出一批能适应高端应用领域的溅射靶材，为高性能溅射靶材的大规模产业化生产提供了良好的研发基础和市场化条件。

第一章　靶材相关介绍

1.1　靶材基本概述

1.1.1　靶材概念界定

1.1.2　靶材主要特点

1.1.3　靶材分类标准

1.2　靶材产品类别

1.2.1　金属靶材

1.2.2　陶瓷靶材

1.2.3　合金靶材

第二章　2017-2021年中国靶材行业发展环境分析

2.1　经济环境

2.1.1　世界经济形势分析

2.1.2　国内宏观经济概况

2.1.3　工业经济运行情况

2.1.4　国内宏观经济展望

2.2　政策环境

2.2.1　靶材行业监管体制

2.2.2　靶材主要法律法规

2.2.3　进口靶材免税期结束

2.2.4　靶材其他相关政策

2.3　需求环境

2.3.1　芯片行业快速发展

2.3.2　国产化代替空间大

2.3.3　下游需求向国内转移

2.4　产业环境

2.4.1　半导体制造材料发展现状

2.4.2　半导体制造材料竞争格局

2.4.3　半导体制造材料发展特点

2.4.4　半导体制造材料发展前景

2.4.5　半导体制造材料发展趋势

第三章　2017-2021年中国靶材行业发展综合分析

3.1　靶材行业发展概况

3.1.1　行业产业链分析

3.1.2　行业应用结构

3.1.3　主要制备工艺

3.1.4　主要制约因素

3.1.5　国内外技术差距

3.2　靶材行业运行状况分析

3.2.1　全球市场规模

3.2.2　国内需求分析

3.2.3　行业发展形势

3.2.4　市场竞争格局

3.2.5　典型企业布局

3.3　PVD镀膜材料行业发展分析

3.3.1　材料基本概述

3.3.2　行业发展特性

3.3.3　行业竞争格局

3.3.4　行业进入壁垒

3.3.5　行业主要企业

第四章　2017-2021年中国ITO靶材行业发展分析

4.1　ITO靶材行业相关介绍

4.1.1　ITO靶材基本概述

4.1.2　ITO靶材研究背景

4.1.3　ITO靶材成形工艺

4.1.4　ITO靶材发展意义

4.1.5　ITO靶材发展挑战

4.2　ITO靶材行业运行状况分析

4.2.1　ITO靶材发展现状

4.2.2　ITO靶材市场规模

4.2.3　ITO靶材市场竞争

4.2.4　ITO靶材厂商发展

4.2.5　ITO靶材项目可行性

4.3　ITO靶材波特五力模型分析

4.3.1　供应商议价能力分析

4.3.2　消费者议价能力分析

4.3.3　新进同行业的威胁分析

4.3.4　替代品的威胁分析

4.3.5　同行业竞争能力分析

第五章　2017-2021年中国靶材行业下游应用领域发展分析

5.1　光伏电池靶材

5.1.1　应用状况分析

5.1.2　市场规模分析

5.1.3　行业竞争格局

5.1.4　行业发展挑战

5.1.5　行业发展展望

5.2　磁记录用靶材

5.2.1　行业发展概况

5.2.2　市场规模分析

5.2.3　行业竞争格局

5.2.4　行业发展挑战

5.2.5　行业发展展望

5.3　面板靶材

5.3.1　面板价格走势

5.3.2　面板靶材应用

5.3.3　市场规模分析

5.3.4　行业竞争格局

5.3.5　行业发展挑战

5.3.6　行业发展展望

5.4　半导体靶材

5.4.1　行业发展概况

5.4.2　市场规模分析

5.4.3　行业竞争格局

5.4.4　企业认证周期

5.4.5　行业技术发展

5.4.6　市场需求预测

第六章　国际靶材行业领先企业经营状况分析

6.1　A

6.1.1　企业发展概况

6.1.2　企业经营情况分析

6.2　B

6.2.1　企业发展概况

6.2.2　企业经营情况分析

6.3　C

6.3.1　企业发展概况

6.3.2　企业经营情况分析

第七章　中国靶材行业重点企业经营状况分析

7.1　A公司

7.1.1　企业发展概况

7.1.2　经营效益分析

7.1.3　业务经营分析

7.1.4　财务状况分析

7.1.5　核心竞争力分析

7.1.6　公司发展战略

7.2　B公司

7.2.1　企业发展概况

7.2.2　经营效益分析

7.2.3　业务经营分析

7.2.4　财务状况分析

7.2.5　核心竞争力分析

7.2.6　公司发展战略

7.3　C公司

7.3.1　企业发展概况

7.3.2　经营效益分析

7.3.3　业务经营分析

7.3.4　财务状况分析

7.3.5　核心竞争力分析

7.3.6　公司发展战略

7.4　D公司

7.4.1　企业发展概况

7.4.2　经营效益分析

7.4.3　业务经营分析

7.4.4　财务状况分析

7.4.5　核心竞争力分析

7.4.6　公司发展战略

第八章　中国靶材行业标杆企业项目投资建设案例深度解析

8.1　平板显示溅射靶材建设项目

8.1.1　项目发展概况

8.1.2　项目投资概算

8.1.3　项目实施进度

8.1.4　项目经济效益

8.2　超高清显示用铜靶材产业化建设项目

8.2.1　项目发展概况

8.2.2　项目投资概算

8.2.3　项目实施进度

8.2.4　项目经济效益

8.3　铝钪靶材和钼靶材的研发建设项目

8.3.1　项目发展概况

8.3.2　项目投资概算

8.3.3　项目实施进度

8.3.4　项目经济效益

第九章　2017-2021年中国靶材行业投资机会分析及风险预警

9.1　中国靶材行业投资机会

9.1.1　国家政策支持

9.1.2　大基金二期加持

9.1.3　下游快速发展

9.1.4　国产替代及产能转移

9.2　中国靶材行业投资价值

9.2.1　行业投资的必要性

9.2.2　行业投资的可行性

9.3　中国靶材行业投资壁垒

9.3.1　客户认证壁垒

9.3.2　资金壁垒

9.3.3　技术壁垒

9.3.4　人才壁垒

9.4　中国ITO靶材项目投资风险评估

9.4.1　技术风险

9.4.2　财务风险

9.4.3　市场风险

9.4.4　管理风险

9.5　中国ITO靶材项目投资建议

9.5.1　提高技术水平

9.5.2　完善财务制度

9.5.3　提高管理水平

9.5.4　提高营销能力

9.5.5　其他方面建议

第十章　2022-2028年中国靶材行业发展前景及趋势预测

10.1　中国靶材行业发展前景

10.1.1　靶材技术发展趋势

10.1.2　ITO靶材发展机遇

10.1.3　ITO靶材前景展望

10.2　2022-2028年中国靶材行业预测分析

10.2.1　2022-2028年中国靶材行业影响因素分析

10.2.2　2022-2028年中国靶材市场规模预测